粉碎粒度范圍D50:1.5-45微米,粒形好,粒度分布窄;粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成,完全自磨,因此設(shè)備耐磨損,產(chǎn)品純度高;轉(zhuǎn)子速度可以變頻調(diào)速,靈活調(diào)整粒度分布;適用于莫式硬度9以下的各類物料的干法粉碎,尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;恒溫或低溫?zé)o介質(zhì)粉碎,尤其適合于熱敏性、低熔點(diǎn)、含糖分、揮發(fā)性物料的粉碎;整套系統(tǒng)密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產(chǎn)過程清潔環(huán)保;控制系統(tǒng)采用程序控制,操作簡便;可選用防爆設(shè)計(jì),也可升級為氮?dú)庋h(huán)系統(tǒng),滿足易燃易爆易氧化物料的超細(xì)粉碎加工需求;
可用于陶瓷涂層的主要有:氧化物、碳化物、氮化物、硼化物陶瓷等。氧化物陶瓷常用的涂層材料有Al2O3,TiO2,ZrO2,Cr2O3,SiO2,MgO,BeO,Y2O3等;碳化物陶瓷主要有SiC,WC,BC,TiC等;氮化物陶瓷主要有Si3N4,TiN,BN,AlN等;硼化物陶瓷,常用的有TiB,ZrB2等。
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粉碎粒度范圍D50:1.5-45微米,粒形好,粒度分布窄;粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成,完全自磨,因此設(shè)備耐磨損,產(chǎn)品純度高;轉(zhuǎn)子速度可以變頻調(diào)速,靈活調(diào)整粒度分布;適用于莫式硬度9以下的各類物料的干法粉碎,尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;恒溫或低溫?zé)o介質(zhì)粉碎,尤其適合于熱敏性、低熔點(diǎn)、含糖分、揮發(fā)性物料的粉碎;整套系統(tǒng)密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產(chǎn)過程清潔環(huán)保;控制系統(tǒng)采用程序控制,操作簡便;可選用防爆設(shè)計(jì),也可升級為氮?dú)庋h(huán)系統(tǒng),滿足易燃易爆易氧化物料的超細(xì)粉碎加工需求;
可用于陶瓷涂層的主要有:氧化物、碳化物、氮化物、硼化物陶瓷等。氧化物陶瓷常用的涂層材料有Al2O3,TiO2,ZrO2,Cr2O3,SiO2,MgO,BeO,Y2O3等;碳化物陶瓷主要有SiC,WC,BC,TiC等;氮化物陶瓷主要有Si3N4,TiN,BN,AlN等;硼化物陶瓷,常用的有TiB,ZrB2等。
粉碎粒度范圍D50:1-45微米,粒形好,粒度分布窄;
粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成,完全自磨,因此設(shè)備耐磨損,產(chǎn)品純度高;
轉(zhuǎn)子速度可以變頻調(diào)速,靈活調(diào)整粒度分布;
適用于莫氏硬度9以下的各類物料的干法粉碎,尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;
恒溫或低溫?zé)o介質(zhì)粉碎,尤其適合于熱敏性、低熔點(diǎn)、含糖份、揮發(fā)性物料的粉碎;
整套系統(tǒng)密閉粉碎,粉塵少,噪音低,生產(chǎn)過程清潔環(huán)保;
控制系統(tǒng)采用程序控制,操作簡便;
可選用防爆設(shè)計(jì),也可升級為氮?dú)庋h(huán)系統(tǒng),滿足易燃易爆易氧化物料的超細(xì)粉碎加工需求。
壓縮空氣經(jīng)過濾干燥后,通過拉瓦爾噴嘴高速噴射入粉碎腔,在多股高壓氣流的交匯點(diǎn)處物料被反復(fù)碰撞、磨擦、剪切而粉碎,粉碎后的物料在風(fēng)機(jī)抽力作用下隨上升氣流運(yùn)動至分級區(qū),在高速旋轉(zhuǎn)的分級渦輪產(chǎn)生的強(qiáng)大離心力作用下,粗細(xì)物料分離,符合粒度要求的細(xì)顆粒通過分級輪進(jìn)入旋風(fēng)分離器和除塵器收集,粗顆粒下降至粉碎區(qū)繼續(xù)粉碎。